GSL-1100X-RTP50是一款CE认证的可滑动快速热处理炉，配置50mm OD×44mm ID×304.8mm L的高纯石英管（单端封...

GSL-1700X-SPC-2是一款小型台式程序控温蒸发镀膜仪，可以设定程序，精确控制温度200℃C~1500℃C（或者 1200℃C~1700℃C），样品台可...

产品概述∶OTF-1200X-RTP-II-5-R是一款5英寸近距离旋转蒸发镀膜炉，其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。此款设备专门设计针对于热蒸发或CSS（C...

产品概述∶GSL-1600X-FS3KW是—款水平式闪烧炉，炉体最高温度可达1600℃℃，配备3KW可编程交流电源，正负极电极丝可通过电极法兰引入到刚玉样品夹具...

产品概述∶OTF-1200X-S-DVD是一款小型坩埚移动管式炉（通过磁铁推动坩埚移动），其炉管直径为50mm.炉体最高工作温度为1200℃，此款设备设计针对于...

产品概述∶
GSL-1100X-IⅢI-D11是一款三温区的大型双管炉，其最高温度可以达到1100℃。特殊的双管设计，是为了通过CVD方法在箔材上大面积生长材料...

产品概述∶
OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩埚可在炉管内移动（靠步进电机控制）的小型开启式管式炉。炉管外径为50mm，设备最高工作温度为1200℃C。...

产品概述∶
OTF-1200X-4-80-100-4CLV-SL双管炉是一个特殊的双管CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计，特别是在新—代能源研究中，应用...

产品概述∶
TCVD-OTF-1200X-S2-5OSL是一款小型的双炉体滑动管式炉，炉管为中50×1600mm的石英管，并配有不锈钢密封法兰，仪器最...

三温区三通道混气CVD系统是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统，其管径为80mm，采用机械泵，它是由管式炉，三路浮子流量供气系统组成，其真空度可达到10-2t...

MSK-SFM-9-5L 双行星真空搅拌机应用范围 ：MSK-SFM-9-5L型双行星四桨真空搅拌机是集真空低速混合、高速分散为一体的高效搅拌设备，可应用于各种...

KJ-6300再循环冷水机组的开式水箱和闭环系统可提供—种清洁可靠的温控流体来源，速度顶值可达 116L/min（30G/min）。 省去了规模建设，排污成本和...

SAT（La，Sr）（Al，Ta） O3 是一种新的无孪晶钙钛矿晶体。 LSAT与高温超导体及多种氧化物材料有完好的匹配。LSAT的熔点低，用提拉法生长，成本比...

NdGaO3单晶基片是近十年中发展起来的新型基片，主要用作高温超导体（如YBCO）及磁性材料的外延薄膜生长用基片。由于NdGaO3与YBCO的晶格失配很小（~0...

双炉体滑动PECVD系统&循环手套是一款双炉体滑动的PECVD系统，并目连接有循环手套箱。此款设备中石英炉管与一循环手套箱相连接，允许客户用CVD方法把样品制作...

小型滑动PECVD管式炉系统是一款小型的PECVD（Plasma Enhanced ChemicalVapor Deposition）（等离子体化学气相沉积）滑...

1000°C小型RTP炉 是一款精巧型快速热处理管式炉，配有4“石英管和真空法兰，它是专为半导体和太阳能电池基片（顶值为3“）的退火而设计，采用10K...

迷你型快速加热冷却炉是一款CE认证的可滑动管式炉，配置外径50x1000mm石英管，工作温度达1200℃。炉底安装一对滑轨，可滑动。加热和冷却速率可达100℃/...

OT-1200X-IR-ISL是一款双温区红外加热快速热处理炉，其炉管直径为4英寸，样品台滑轨周围嵌有可伸缩波纹管，允许样品在真空或气氛保护环境下移动。此款设备...

5英寸近距离蒸发镀膜炉是一款快速热处理炉，其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。此款设备专门实际针对于热蒸发或CSS（Close Spaced Sublimati...